Yazar "Kekül, Reyhan" seçeneğine göre listele

Listeleniyor 1 - 2 / 2
  • Küçük Resim Yok
    Öğe
    Dalgaboyu genişletilmiş swır dedektör uygulaması için (100) InP alttaş üzerine büyütülen zengin indiyum içerikli InxGa1-xAs epitaksiyel katmanların karekterizasyonu
    (Sivas Cumhuriyet Üniversitesi, 2023) Kekül, Reyhan; Altuntaş, İsmail
    Bu tez çalışmasında, Metal Organik Buhar Fazı Epitaksi (MOVPE) tekniği kullanılarak zengin In içerikli (x>0.53) InxGa1-xAs yapıları (100) InP alttaş üzerine epitaksiyel olarak büyütülmüş ve detaylı karakterizasyonları yapılmıştır. Bu kapsamda, örgü uyumsuz InxGa1-xAs/InP yapılarının kristal kalitesi, yapılan gaz akışı çalışmaları, Si katkılama çalışması ve büyütme sıcaklığı çalışması olmak üzere, farklı optimizasyon koşulları altında araştırılmıştır. Si katkılı ve katkısız olarak büyütülen zengin In içerikli InxGa1-xAs epitaksiyel ince filmlerin yapısal karakterizasyonu yüksek çözünürlüklü X-ışını kırınımı (HR-XRD) cihazı ile, elektriksel karakterizasyonu Hall ölçümü cihazı ile ve optik karakterizasyonu Fotolüminesans (PL) ölçüm sistemi ile gerçekleştirilmiştir. Yapılan karakterizasyon çalışmaları sonucunda, zengin In içerikli InxGa1-xAs yapılarının alaşım oranının, kristal kalitesinin, elektriksel ve optik özelliklerinin tez kapsamında incelenen parametrelere bağlı olarak etkilendiği görülmüştür. Sonuç olarak, en düşük In içeriği x=0.610 dan en yüksek In içeriği x=0.675 e olmak üzere 12 adet zengin In içerikli örgü uyumsuz InxGa1-xAs/InP yapısı genişletilmiş SWIR (1.7-3 µm) dedektör yapıları için MOVPE tekniği ile başarılı bir şekilde büyütülmüştür.
  • Küçük Resim
    Öğe
    Influence of Highly Efficient Carbon Doping on AlxGa1? xAs Layers with Different Al Compositions (x) Grown by MOVPE
    (27.06.2023) Pertikel, İzel; Kekül, Reyhan; Altuntaş, İsmail; Gür, Emre; Demir, İlkay
    Carbon (C)-doped aluminum gallium arsenide ( AlxGa1−xAs) epitaxial layers with different aluminum (Al) concentrations have been grown on gallium arsenide (GaAs) substrates by metalorganic vapor phase epitaxy (MOVPE) technique. The impact of varying carbon tetrabromide ( CBr4) flow rates on the electrical properties of AlxGa1− xAs materials with different Al compositions has been investigated. High-resolution x-ray diffraction (HRXRD) measurement and a Hall effect measurement system have been used to determine the Al compositions and to evaluate the electrical properties. It has been found that the carrier density increases and the mobility decreases by increasing the flow rate of CBr4 and changing Al compositions up to a certain point. In contrast, at higher Al compositions, a decrease in carrier density and an increase in mobility have been observed with increasing CBr4 flow rate. Since these observed trends require to be analyzed in more detail, x-ray photoelectron spectroscopy (XPS) has been used to analyze the elements in the structure. From the XPS results, it has been shown that the atomic concentration of the arsenic in the structure decreased with the increase in CBr4 flow rates. In addition, it has been shown that the Al composition in the AlxGa1− xAs material obtained from the XRD results increases with the increase in the atomic concentration of the arsenic. Accordingly, a linear increase in carrier concentration is shown with increasing Al composition. This increase is explained by the effect of the Al–C bond content on the electrical properties of AlxGa1− xAs.