Yazar "Özer, Ali" seçeneğine göre listele

Listeleniyor 1 - 4 / 4
  • Küçük Resim Yok
    Öğe
    Characterization of gallium oxide/glass thin films grown by RF magnetron sputtering
    (2020) Mobtakeri, Soheil; Tüzemen, Ebru Şenadım; Özer, Ali; Gür, Emre
    In the present work, Gallium Oxide (Ga2O3) were deposited as thin films by radio frequency(RF) magnetron sputtering at 300 °C substrate temperature on glass substrate using Ga2O3target with 99.99% purity. The crystalline structure, morphology, optical properties of theGallium Oxide films were determined using X-ray diffraction (XRD), scanning electronmicroscopy (SEM) and UV–Visible Spectrometry, respectively. Experimental results showthat annealing has an important role in the changes observed in the characterization of theGallium Oxide thin films. All thin films produced were amorphous, except for the annealedP4-500. SEM pictures reveal the morphology of prepared Gallium Oxide thin films. Therefractive index and real part of complex dielectric constant increased as the film depositionpressure increased
  • Küçük Resim
    Öğe
    Gallium oxide films deposition by RF magnetron sputtering; a detailed analysis on the effects of deposition pressure and sputtering power and annealing
    (2021) Mobtakeri, Soheil; Akaltun, Yunus; Özer, Ali; Kılıç, Merhan; Şenadım Tüzemen, Ebru; Gür, Emre
    In this study, gallium oxide (Ga2O3) thin films were deposited on sapphire and n-Si substrates using Ga2O3 target by radio frequency magnetron sputtering (RFMS) at substrate temperature of 300 ◦C at variable RF power and deposition pressure. The effects of deposition pressure and growth power on crystalline structure, morphology, transmittance, refractive index and band gap energy were investigated in detail. X-ray diffraction results showed that amorphous phase was observed in all the as-deposited thin films except for the thin films grown at low growth pressure. All the films showed conversion to poly-crystal β-Ga2O3 phase after annealing process. When the deposition pressure increased from 7.5 mTorr to 12.20 mTorr, change in the 2D growth mode to 3D columnar growth mode was observed from the SEM images. Annealing clearly showed formation of larger grains for all the thin films. Lower transmission values were observed as the growth pressure increases. Annealing caused to obtain similar transmittance values for the thin films grown at different pressures. It was found that a red shift observed in the absorption edges and the energy band gap values decrease with increasing growth pressure. For as-deposited and annealing films, increasing sputtering power resulted in the increase refractive index.
  • Küçük Resim Yok
    Öğe
    Sürtünme Karıştırma Kaynağı ile Birleştirilen AISI 316 Paslanmaz Çelik ve Karbonlu Çelik Çiftlerinin Mekanik Özelliklerinin ve Mikroyapılarının İncelenmesi
    (2021) Alnak, Yeliz; Özer, Ali; Savaş, Vedat
    Sürtünme karıştırma kaynağı, belirli bir hızda dönen bir pimin metaller arasında sürtünmesiyle oluşan ısıyıkullanarak, benzer veya benzer olmayan malzemeleri katı halde kaynaklamak için kullanılan bir katı halkaynak tekniğidir. Kaynak, kaynak yapılacak malzemelerden daha sert olan ve tükenmeyen bir pim ileyapılır. Bu çalışmada AISI 316 östenitik paslanmaz çelik ve sade karbonlu çelikler sürtünme karıştırmakaynağı ile birleştirilmiştir. Birleştirilen çelik plakalar 3 mm kalınlığa, 60 mm genişliğe ve 120 mmuzunluğa sahiptir. Deneylerde omuz çapı 16 mm, pim uzunluğu 2,7 mm olan eşkenar üçgen profilli tungstenkarbür uç kullanılmıştır. Sürtünme karıştırma kaynağı 710 dev/dak devir sayısı ve 63 mm/dak ilerlemehızında ve takıma 1,5° açı verilerek gerçekleştirilmiştir. Kaynaklı bölgelerinin mikroyapı ve mekaniközellikleri incelenerek, en uyumlu kaynak çiftinin belirlenmesi amaçlanmıştır. Yapılan mekanik testlerinve mikroyapı analizlerinin sonuçlarından, en uyumlu kaynak çiftinin AISI 316-AISI 1010 olduğu ortayaçıkmıştır. Mekanik testlerde AISI 316-AISI 1010 çelik çiftinin 618,81 MPa çekme değeri ile diğer kaynakçiftlerinden daha iyi olduğu görülmüştür. Mikroyapıları incelendiğinde tane boyutunun malzemeninmukavemetini büyük ölçüde etkilediği, özellikle büyük tanelerin görüldüğü yerlerde malzemeninmukavemetinin düştüğü gözlemlenmiştir.
  • Küçük Resim Yok
    Öğe
    Sürtünme Karıştırma Kaynağı ile Birleştirilen AISI 316 Paslanmaz Çelik ve Karbonlu Çelik Çiftlerinin Mekanik Özelliklerinin ve Mikroyapılarının İncelenmesi
    (Çukurova Üniversitesi, 2021) Alnak, Yeliz; Özer, Ali; Savaş, Vedat
    Sürtünme karıştırma kaynağı, belirli bir hızda dönen bir pimin metaller arasında sürtünmesiyle oluşan ısıyı kullanarak, benzer veya benzer olmayan malzemeleri katı halde kaynaklamak için kullanılan bir katı hal kaynak tekniğidir. Kaynak, kaynak yapılacak malzemelerden daha sert olan ve tükenmeyen bir pim ile yapılır. Bu çalışmada AISI 316 östenitik paslanmaz çelik ve sade karbonlu çelikler sürtünme karıştırma kaynağı ile birleştirilmiştir. Birleştirilen çelik plakalar 3 mm kalınlığa, 60 mm genişliğe ve 120 mm uzunluğa sahiptir. Deneylerde omuz çapı 16 mm, pim uzunluğu 2,7 mm olan eşkenar üçgen profilli tungsten karbür uç kullanılmıştır. Sürtünme karıştırma kaynağı 710 dev/dak devir sayısı ve 63 mm/dak ilerleme hızında ve takıma 1,5° açı verilerek gerçekleştirilmiştir. Kaynaklı bölgelerinin mikroyapı ve mekanik özellikleri incelenerek, en uyumlu kaynak çiftinin belirlenmesi amaçlanmıştır. Yapılan mekanik testlerin ve mikroyapı analizlerinin sonuçlarından, en uyumlu kaynak çiftinin AISI 316-AISI 1010 olduğu ortaya çıkmıştır. Mekanik testlerde AISI 316-AISI 1010 çelik çiftinin 618,81 MPa çekme değeri ile diğer kaynak çiftlerinden daha iyi olduğu görülmüştür. Mikroyapıları incelendiğinde tane boyutunun malzemenin mukavemetini büyük ölçüde etkilediği, özellikle büyük tanelerin görüldüğü yerlerde malzemenin mukavemetinin düştüğü gözlemlenmiştir.