Browsing Nanoteknoloji Mühendisliği Bölümü by Title
Now showing items 77-82 of 82
-
Yakın Kızıl Ötesi Spektrumu Sogurucu Optik Filtre Gelistirilmesi
(TUBITAK, 2023)Güneş ısısını soğuran ve birçok optik uygulama için yakın kızılötesi (NIR) soğuruculuğu olan materyallerin geliştirilmesi güneş enerjisi uygulamaları yanında 1064 nm dalgaboylu lazer ışınını soğurması niteliği ile savunma ... -
ystematic optical study of high-x InxGa1-xAs/InP structures for infrared photodetector applications
(2022)Optical and structural properties in high-x InxGa1-xAs (x > 0.65) samples with varying indium concentration grown on InP (100) substrate are reported. By increasing the indium fraction, it was found by the high-resolution X-ray ... -
Yüksek Güç-Frekans Uygulamaları Için MOCVD ile Epitaksiyel AlN Kristalinin Büyütülmesi, Katkılanması, Karakterizasyonu ve Aygıt Üretimi
(15.03.2021)Bu projede yüksek güç-frekans uygulamaları için MOCVD (metal organik kimyasal buhar depolama) ile epitaksiyel AlN kristalinin büyütülmesi, katkılanması, karakterizasyonu ve aygıt üretimi yapılarak diyot karakteristiklerinin ... -
Yüksek Güç-Frekans Uygulamaları Için MOCVD ile Epitaksiyel AlN Kristalinin Büyütülmesi, Katkılanması, Karakterizasyonu ve Aygıt Üretimi
(15.03.2021)Bu projede yüksek güç-frekans uygulamaları için MOCVD (metal organik kimyasal buhar depolama) ile epitaksiyel AlN kristalinin büyütülmesi, katkılanması, karakterizasyonu ve aygıt üretimi yapılarak diyot karakteristiklerinin ... -
ZnO/Al2O3 layered structures deposited by RF magnetron sputtering on glass: growth characteristics, optical properties, and microstructural analysis
(12.08.2021)In this study, Al2O3 thin films of different thicknesses (50 nm, 100 nm, 150 nm, 200 nm, and 250 nm) were, first, grown using RF magnetron sputtering technique on glass substrate at 30 °C temperature, with 120Wpower value. ... -
ZnO/Al2O3 layered structures deposited by RF magnetron sputtering on glass: growth characteristics, optical properties, and microstructural analysis
(12.07.2021)In this study, Al2O3 thin films of different thicknesses (50 nm, 100 nm, 150 nm, 200 nm, and 250 nm) were, first, grown using RF magnetron sputtering technique on glass substrate at 30 °C temperature, with 120Wpower value. ...