Browsing Nanoteknoloji Mühendisliği Bölümü Makale Koleksiyonu by Title
Now showing items 70-75 of 75
-
Vcsel tabanlı yüksek güçlü yarı iletken lazerler
(15.01.2021)VCSEL’ler (vertical-cavity surface-emitting laser, düşey- kovuklu yüzey-ışımalı lazer) yirmi yılı aşkın bir süredir giderek gelişen veri iletişimi (datacom) alanının anahtar bileşenlerinden birisidir. Bunun yanında son ... -
ystematic optical study of high-x InxGa1-xAs/InP structures for infrared photodetector applications
(2022)Optical and structural properties in high-x InxGa1-xAs (x > 0.65) samples with varying indium concentration grown on InP (100) substrate are reported. By increasing the indium fraction, it was found by the high-resolution X-ray ... -
Yüksek Güç-Frekans Uygulamaları Için MOCVD ile Epitaksiyel AlN Kristalinin Büyütülmesi, Katkılanması, Karakterizasyonu ve Aygıt Üretimi
(15.03.2021)Bu projede yüksek güç-frekans uygulamaları için MOCVD (metal organik kimyasal buhar depolama) ile epitaksiyel AlN kristalinin büyütülmesi, katkılanması, karakterizasyonu ve aygıt üretimi yapılarak diyot karakteristiklerinin ... -
Yüksek Güç-Frekans Uygulamaları Için MOCVD ile Epitaksiyel AlN Kristalinin Büyütülmesi, Katkılanması, Karakterizasyonu ve Aygıt Üretimi
(15.03.2021)Bu projede yüksek güç-frekans uygulamaları için MOCVD (metal organik kimyasal buhar depolama) ile epitaksiyel AlN kristalinin büyütülmesi, katkılanması, karakterizasyonu ve aygıt üretimi yapılarak diyot karakteristiklerinin ... -
ZnO/Al2O3 layered structures deposited by RF magnetron sputtering on glass: growth characteristics, optical properties, and microstructural analysis
(12.08.2021)In this study, Al2O3 thin films of different thicknesses (50 nm, 100 nm, 150 nm, 200 nm, and 250 nm) were, first, grown using RF magnetron sputtering technique on glass substrate at 30 °C temperature, with 120Wpower value. ... -
ZnO/Al2O3 layered structures deposited by RF magnetron sputtering on glass: growth characteristics, optical properties, and microstructural analysis
(12.07.2021)In this study, Al2O3 thin films of different thicknesses (50 nm, 100 nm, 150 nm, 200 nm, and 250 nm) were, first, grown using RF magnetron sputtering technique on glass substrate at 30 °C temperature, with 120Wpower value. ...